全彩显示是Micro LED的核心难点,当前主流方案包括合光方案、量子点色转换、三色堆叠及单片外延技术。合光方案相对成熟但模组体积需进一步缩小;三色堆叠和单片外延方案仍处于实验室阶段,工艺难度极高。
将百万至千万颗微米级LED芯片从生长衬底精准转移至驱动基板的过程需达到±0.5μm精度,且良率需超过99.9999%。现有技术包括精准抓取、自组装、选择性释放和转印等流派,但尚无完美解决方案。
Micro LED制造涉及外延片生长、键合剥离、光刻刻蚀等八大核心工艺,需确保芯片尺寸小于10μm并实现高亮度(如250万Nits)。光学均一性不足需通过混bin技术分类处理,但检测精度需达到2μm以内。
AR眼镜等消费级应用要求成本降低,但高精度检测设备与工艺流程导致初期投入高昂。2030年市场规模预测达2550万台,但目前仍面临量产技术验证周期长、良率不稳定等问题。
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